廢水臭氣處理設(shè)備利用光化學反應(yīng)降解污染物的途徑，包括無催化劑和有催化劑參與的光化學氧化過程。前者多采用氧和過氧化氫作為氧化劑，在紫外光的照射下使污染物氧化分解 后者又稱光催化氧化，一般可分為均相和非均相催化兩種類型。均相光催化降解中較常見的是以Fe2 或Fe3 及H2O2為介質(zhì)，通過photo-Fenton反應(yīng)產(chǎn)生·HO使污染物得到降解，非均相光催化降解中較常見的是在污染體系中投加一定量的光敏半導體材料，同時結(jié)合一定量的光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產(chǎn)生電子-空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產(chǎn)生·HO等氧化性的自由基，再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉(zhuǎn)移等式污染物全部或接近全部礦化。
 

　　廢水臭氣處理設(shè)備的特點：
 

　　一、降解有機化學物：能去除揮發(fā)性有機物(VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99.9%以上.
 

　　二、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應(yīng)的排風管道和排風動力，使氣體通過本設(shè)備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學反應(yīng)。
 

　　三、適應(yīng)性強：可適應(yīng)高濃度，大氣量，不同有機化學氣體物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
 

　　四、運行成本低：本設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，可節(jié)約大量排風動力能耗。
 

　　五、無需預(yù)處理：廢氣無需進行特殊的預(yù)處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30度-95度之間，濕度在40%-98%之間均可正常工作。
 

　　六、設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。